產品詳情
                        • 產品名稱:半導體薄膜電子束蒸發鍍膜儀

                        • 產品型號:CY-X-EIB500
                        • 產品廠商:成越科儀
                        • 產品文檔:
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                        簡單介紹:
                        電子束蒸發方式鍍膜設備,主要用于制備各種導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜,微納器件微加工,電鏡樣品預處理等,尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料
                        詳情介紹:

                        該設備以電子束蒸發方式鍍膜設備,主要用于制備各種導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜,微納器件微加工,電鏡樣品預處理等,尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片、硅片等硬質襯底,也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性襯底上鍍膜.


                        電子束蒸發鍍膜儀技術參數:

                        產品名稱

                        電子束蒸發鍍膜儀

                        產品型號

                        CY-X-EIB500

                        使用條件

                        環境溫度540

                        電源

                        三相380V

                        電壓

                        220V 50HZ

                        功率

                        <20千瓦

                        水壓

                        <2.5bar

                        鍍層監控

                        采用SQM160膜厚儀進行監控,涂層厚度不均勻度小于6%。

                        加熱燈

                        4只鹵素加熱燈用于除氣,1個氖燈用于照明

                        電極接口

                        9、2路金屬蒸發電極接口,備用

                        水冷系統

                        水壓監測

                        觀察窗

                        直徑100mm,帶X光濾光玻璃

                        控制系統

                        觸屏系統

                        真空室尺寸

                        蒸發室尺寸:Φ500*H500mm

                        電子槍

                        新型電子槍,6孔坩堝

                        樣品轉盤

                        樣品尺寸:<150mm,樣品臺可旋轉,樣品臺表面與電子槍表面距離上下調節,調節距離為200mm-250mm,樣品臺可加熱,加熱溫度<500℃。

                        系統真空度

                        A、極限真空:烘烤1224小時,連續抽氣,真空小于5x10-5Pa

                        B、抽氣速率:從大氣開始, 40 分鐘內真空 < 5x10-4Pa

                        C、系統泄漏率:關機12小時后,測量真空室真空度<10Pa

                        真空機組

                        FB1200分子泵+VRD-16前級泵+旁抽閥+閘板閥+切斷閥+復合真空計+鍍膜監測真空計接口(備用)


                        豫公網安備 41019702002438號

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